Unimill 離子減薄儀--用于 TEM/XTEM 樣品制備的全自動離子束減薄系統(tǒng)

Technoorg Linda UniMill 離子減薄儀專為快速地制備具備高減薄率的、高質量的 TEM/XTEM 樣品而設計。 Unimill 既可以使用全球*的高能離子槍進行快速研磨，也可以使用的低能離子槍進行*終拋光和精修處理。

產(chǎn)品特色：

· 可直接使用同一臺儀器進行快速減薄和拋光/精細處理

· 支持全自動的離子槍參數(shù)設置和手動調節(jié)離子束研磨參數(shù)

· 具備*廣的離子槍能量范圍： 低能離子槍與高能離子槍結合，能量范圍可達 100 eV ~ 16 keV

· 具備極高的切削率

· 可選擇配備 LN2 液氮制冷

離子槍優(yōu)勢

UniMill 包括兩支獨立控制的離子槍：一支高能或高能離子槍和一支低能離子槍。

高能和高能離子槍：Unimill 的高能和高能離子槍提供了*的研磨率。高達 16 keV 的離子槍專為要求極低研磨速率的 TEM 樣品制備而設計。

低能離子槍：離子槍的特殊結構可在整個制備過程中形成高束流密度。能量極低的離子束保證了表面損傷和離子束誘導非晶化效應的*小化。

離子槍控制：所有離子槍參數(shù)，如加速電壓和離子束電流在內均由智能反饋回路控制，但始終可以在樣品制備過程中進行手動調節(jié)。離子槍參數(shù)的初始值支持自動設置或手動調節(jié)，同時可在電腦上連續(xù)監(jiān)控和顯示。

性能參數(shù)

離子槍

高能離子槍（可選）：

· 離子束能量：高達16 keV，連續(xù)可調

· 離子束電流：高達 500 μA

· 離子束直徑：1.6 - 1.8 mm (FWHM)

高能離子槍（標配）：

· 離子束能量：高達10 keV，連續(xù)可調

· 離子束電流：高達 300 μA

· 離子束直徑：0.9 - 1.3 mm (FWHM)

低能離子槍：

· 離子束能量：100 eV - 2 keV，連續(xù)可調

· 離子束電流：7 - 80 μA

· 離子束直徑：1.5 - 2.2 mm (FWHM)

樣品臺

· 切削角度：0°- 40°，每 0.1° 連續(xù)可調

· 電腦控制的平面內樣品旋轉和移動：

· 360° 旋轉

· 從±10° 到±120° 移動，每 10° 連續(xù)可調

· 可兼容的 TEM 樣品厚度范圍 (30 - 200 μm)

成像系統(tǒng)

· 用于全視覺控制和切削監(jiān)控/終止的 CMOS 相機圖像

· 高分辨率彩色 CMOS 相機

· 50 - 400 倍放大范圍的手動變焦視頻鏡頭

電腦控制

· 內置工業(yè)級計算機

· 簡單便捷的圖形界面和圖像分析模塊

· 支持用戶手動調節(jié)離子槍參數(shù)，包括氣流調節(jié)

· 用于自動設置機械和切削參數(shù)的預編程方案（可以手動調整）

· 自動樣品加載

· 自動終止：圖像分析模塊支持的切削過程的光學終止（ 通過檢測薄區(qū)穿孔或監(jiān)測表面形貌）

供氣系統(tǒng)

· 99.999% 純氬氣，*壓力為 1.3 - 1.7 bar

· 帶有電子出口壓力監(jiān)測功能的惰性氣體壓力調節(jié)器

· 工作氣體流量高*控制

真空系統(tǒng)

· Pfeiffer 真空系統(tǒng)配備無油隔膜和渦輪分子泵，配備緊湊的全范圍 Pirani/Penning 真空計

電源要求

· 100 - 120 V/10 A/ 50-60 Hz 或 220 - 240 V/5 A/ 50-60 Hz

成像案例