氣溶膠納米噴印

納米印刷是柔性電子領域重要的區(qū)域性沉積技術， VSP-P1 采用*的氣溶膠沖壓沉積技術，將原材料通過火花燒蝕的方式轉變成納米級氣溶膠顆粒，并在真空系統(tǒng)配合下實現圖案的繪制。該方法避免了傳統(tǒng)噴墨打印需要導電油墨以及后續(xù)熱處理去除油墨的弊端，保證圖案的納米結構*的保留，避免產生氣孔等缺陷。

運行原理

氣溶膠顆粒會通過火花燒蝕的方式在前端產生，顆粒經由惰性氣體帶動運輸至噴嘴處，經過真空系統(tǒng)作用，腔室的氣壓會保持在 10mbar 以下，而經由噴嘴噴出的氣溶膠會在基底表面沖壓沉積。而利用 XYZ 軸控制噴嘴的移動，即可實現圖案的繪制。

利用該方法，可輕松實現：

1.  金屬，合金，氧化物顆粒的印刷沉積

2.  無添加劑，無廢液

3.  一步沉積，設備模塊化，前端的氣溶膠發(fā)生器可獨立拆卸工作，進行其它方向的納米研究

4.  顆粒初始粒徑可保持在 0-20nm 之間，形成多孔結構

應用領域

· 高通量合金催化劑的篩選

利用氣溶膠噴印在多個通道打印沉積比例不同的合金催化劑，從而快速考查電催化性能。該方法可用于在工業(yè)相關電流密度下的流體力學條件下制備和篩選電極材料，可用于確定*催化劑和催化劑制備的穩(wěn)健性。Ni / Fe 的復合電極被用于進行驗證，64 個不同比例的催化陽極電極在快速篩選后可得到反應電位的變化。

氣體傳感器

金屬氧化物 (MOX) 氣體傳感器通過半導體金屬氧化物薄膜的電阻變化來檢測氣體，但氧化物涂層需要溫和的沉積，故而常用的 PVD 與 CVD 手段均不適用。現有方法為利用溶膠凝膠法結合絲網印刷實現區(qū)域的沉積。利用氣溶膠噴印直寫可以實現*的印刷沉積，避免熱處理。