薄膜開關(guān)在線式等離子表面處理機(jī)：誠峰智造

真空式等離子處理系統(tǒng)CRF-VPO-2L-S

名稱（Name）

真空式等離子處理系統(tǒng)

型號（Model）

CRF-VPO-2L-S

控制系統(tǒng)（Control system）

PLC+觸摸屏

電源（Power supply）

380V/AC,50/60Hz, 3kw

中頻電源功率（RF Power）

1000W/40KHz

容量（Volume ）

10L(Option)

層數(shù)（Electrode of plies ）

2(Option)

腔體規(guī)格（Area）

220(W)*230(D)*230(H)

氣體通道（Gas）

兩路工作氣體可選：Ar、N2、CF4、O2

產(chǎn)品概述
設(shè)備參數(shù)
產(chǎn)品特點(diǎn)
大處理空間，提升處理產(chǎn)能，采用PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，*的控制設(shè)備運(yùn)行；
可按照客戶要求定制設(shè)備腔體容量和層數(shù)，滿足客戶的需求；保養(yǎng)維修成本低，便于客戶成本控制；
高精度，快響應(yīng)，良好的操控性和兼容性，完善的功能和*的技術(shù)支持。
 
應(yīng)用范圍
真空等離子清洗機(jī)適用于印制線路板行業(yè)，半導(dǎo)體IC領(lǐng)域、硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域，汽車電子行業(yè),航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污、軟板、軟硬結(jié)合板表面清潔、去鉆污，軟板補(bǔ)強(qiáng)前活化。半導(dǎo)體IC領(lǐng)域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領(lǐng)域硅膠、塑膠、聚合體的表面粗化、刻蝕、活化。

伴隨著航空工業(yè)的發(fā)展，渦輪發(fā)動機(jī)燃?xì)膺M(jìn)口溫度和效率都在不斷提高，而現(xiàn)有的高溫合金和冷卻技術(shù)已經(jīng)不能滿足這一需求。因此，等離子體噴涂熱障涂層在高溫合金表面的應(yīng)用就顯得尤為重要，而且熱障涂層在高溫下工作已有很長的歷史。
抗氧化能力是評價(jià)等離子體噴涂熱障涂層性能的重要指標(biāo)。采用稱量法和氧化層厚度法對等離子體噴涂熱障涂層的高溫氧化行為進(jìn)行了熱力學(xué)和動力學(xué)分析。并利用X射線衍射、電子探針等分析手段，對樣品的成分分布及結(jié)構(gòu)變化進(jìn)行了研究。根據(jù)試驗(yàn)結(jié)果探討了熱障涂層的氧化機(jī)理。研究了大氣等離子體機(jī)噴涂制備的ZrO2熱障涂層，分別采用MgO和Y2O3作穩(wěn)定劑，對其靜態(tài)氧化性能進(jìn)行了測試。研究發(fā)現(xiàn)，兩種熱障涂層的靜態(tài)氧化動力學(xué)均遵循拋物線規(guī)律，氣孔率隨氧化溫度升高而降低，單斜相含量增加。雖然MgO的加入量比Y2O3高，但Y2O3穩(wěn)定的ZrO2熱障涂層具有更好的熱穩(wěn)定性。而在Y2O3穩(wěn)定的ZrO2熱障涂層中，Al元素在過渡層上分布均勻，具有較好的抗氧化性能。通過實(shí)驗(yàn)，用低壓等離子噴涂技術(shù)制備了Y2O3-ZrO2/NiCoCrAlY復(fù)合熱障涂層，并對其進(jìn)行了800-1000℃的靜態(tài)氧化試驗(yàn)。
通過低壓等離子體處理機(jī)對膠層進(jìn)行噴涂，制備出的熱障涂層具有較好的高溫抗氧化性能。而且樣品在較高溫度長期氧化后，粘結(jié)層中的鋁元素會擴(kuò)散到陶瓷層/粘結(jié)層界面，形成均勻致密的雙層氧化鋁膜，更有效地保護(hù)基體。對三種熱障涂層高溫氧化行為的研究表明，等離子體熱障涂層的氧化過程分為氧吸附、氧在陶瓷層中的擴(kuò)散、選擇氧化生成Al2O3膜、薄膜生長、厚膜生長和厚膜破壞六個(gè)階段，其中鋁元素的分布直接影響保護(hù)性膜的生長和成熟，進(jìn)而影響涂層的抗氧化性。