高溫高壓光催化反應釜系統(tǒng)

價格
電議

型號
高溫高壓光催化反應釜

品牌

所在地
北京市 海淀區(qū)

更新時間
2019-02-21 05:10:02

瀏覽次數(shù)

     

    高溫高壓光催化反應釜(系統(tǒng)) 
    反應及取樣單元:
    設計容積(有效):50ml100ml,200ml訂制。
    設計工作溫度:200°C
    設計工作壓力:2.5MPa
    釜體材料:SU304不銹鋼
    閥門及連接材料:SU316L不銹鋼
    反應器容器:聚四氟乙烯
    光窗口材料:拋光JGS2紫外石英(耐壓窗口)或合成石英
    光窗口直徑:25.4mm
    帶有溫控加熱裝置及均勻傳熱設計。
    帶有氣體通入功能。
    帶有工作溫度、壓力傳感器及顯示。
    帶有磁力攪拌功能。
    帶有自動泄壓保護
    可選配外保護箱體
    可進行氣相、液相樣品檢測 
    可選配光照單元:
       配合PLS-SXE300C/300CUV,或XPS300或XPS300UV(具有TSCS功能,可長時間保證光輸出穩(wěn)定性)使用。
    可選配附件:紫外光直接輸出單元
                 光纖輸出單元
                 外置透鏡匯聚單元
     
     北京泊菲萊科技有限公司
     聯(lián)系人:孫佳偉
     電   話:  
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              北京印象寫字樓7#1108室
     
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