化學氣相沉積裝置CVD與氣體質量流量混合和控制的關系

CVD裝置需要用到穩(wěn)定的控制氣體的流量進氣量，因此氣體質量流量控制器的選擇就很關鍵，需要與整套裝置包括熱分解反應、化學合成反應以及化學傳輸反應等集中控制。

在當代，微型電子學元器件中越來越多的使用*非晶態(tài)材料，因此化學氣相沉積法在半導體工業(yè)中有著比較廣泛的應用?；瘜W氣相沉積是一種化工技術，該技術主要是利用含有薄膜元素的一種或幾種氣相化合物或單質、在襯底表面上進行化學反應生成薄膜的方法。在中溫或高溫下，通過氣態(tài)的初始化合物之間的氣相化學反應而形成固體物質沉積在基體上?；瘜W氣相沉積是含有薄膜所需要的原子和分子的化學物質在反應室內混合并在氣態(tài)下發(fā)生反應，其原子或分子沉積在晶片表面聚集形成薄膜的過程。

化學氣相沉積裝置主要包含四部分，即反應室、加熱系統(tǒng)、供反應氣體系統(tǒng)、反應后氣體處理系統(tǒng)。在化學氣相沉積過程中，為了在晶片表面形成厚度均勻、質量較佳的薄膜，必須使得反應氣體均勻的到達晶片表面，CVD裝置供反應氣體由原料氣體、氧化劑氣體、還原劑氣體以及將反應氣體輸送至反應室中的載帶氣體組成。原料氣體可由氣相、液相及固相三種形態(tài)提供。氣體可直接送入反應室中。氣體流量控制可使用質量流量計或針閥來實現(xiàn)。