CNI v2.1是一種非常靈活的納米壓印工具。它可提供熱納米壓印、UV納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置。體積小，容易存放。*可處理Ø100毫米（4英寸）所有形狀和格式的印章和基板。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和基板，但所有處理器都是全自動的，軟件用戶可以完全控制壓印過程。

特色：

?    體積小巧，容易存放，桌面型

?    輕微復制微米和納米級結(jié)構(gòu)

?    熱壓印溫度高達200°C

?    可選的高溫模塊，適用于240°C

?    UV 納米壓印，365nm曝光

?    真空納米壓?。ㄇ皇铱沙檎婵罩?.1毫巴）

?    納米壓印壓力高達10巴

?    溫度分布均勻、讀數(shù)*

?    筆記本電腦全自動控制，工藝配方編輯簡單，完全靈活控制，自動記錄數(shù)據(jù)

?    直徑*100毫米（圓形）腔室

?    腔室高度為20毫米，可擴展至45毫米

?    即插即用

?    使用簡單直觀

?    專為研發(fā)而設(shè)計

?    提供安裝和操作教程視頻

應(yīng)用：在過去五年中，石墨烯的氣體傳感器引起了極大的興趣，顯示出單分子檢測。

*近的研究表明，與非圖案化層相比，石墨烯的圖案化強烈地增加了靈敏度。

通過標準程序生長CVD石墨烯，然后轉(zhuǎn)移到Si / SiO 2基板上進行進一步處理。 如（Mackenzie，2D Materials）中所述，使用物理陰影掩模和激光燒蝕來定義接觸和器件區(qū)域。

使用軟壓印在CNI v2.0中進行熱納米壓印光刻。 將mr-I7010E壓印抗蝕劑在130℃，6巴壓力下壓印10分鐘。 壓力在70℃下釋放。

通過反應(yīng)離子蝕刻將邊緣到邊緣間隔為120-150nm的大面積圖案的孔轉(zhuǎn)移到石墨烯中，并且用丙酮除去殘留的抗蝕劑。

發(fā)現(xiàn)器件具有大約的載流子遷移率發(fā)現(xiàn)器件在加工前具有約2000cm2 / Vs的載流子遷移率，之后具有400cm2 / Vs的載流子遷移率處理，同時保持整體低摻雜水平。