可實現(xiàn)明場、暗場、微分干涉、熒光、偏光、紅外等多種觀察方式。
反射光和透射光照明提供了高強度的白光LED光源。
具有ESD靜電消除能力,防止受到靜電放電的影響。
根據(jù)工業(yè)和材料學的不同應用,可以組合成反射顯微鏡、透反射顯微鏡、紅外顯微鏡、偏光顯微鏡等多種應用的顯微鏡。
采用了新的編碼功能,將顯微鏡的硬件設置與奧林巴斯Stream圖像分析軟件整合在一起,觀察方法、照明強度和物鏡位置全部記錄在軟件或手動控制器里。
產(chǎn)品名稱: BX53M金相顯微鏡
模塊化的設計能夠實現(xiàn)多種配置,以滿足用戶的各種要求。
BX53M為反射光和透射光照明提供了高強度的白光LED光源。無論強度是,LED都保持著一致的色溫。LED提供了高效而長壽命的照明,是材料學檢測應用的理想工具。
BX53M反射和反射/透射觀察
BX3M系列有兩種顯微鏡機架,一種僅用于反射光,一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件,并且都配備有ESD防靜電功能。
BX53M IR觀察
IR物鏡可用于透過硅材料成像,進行半導體檢查和測量。配備了5倍到100倍紅外(IR)物鏡,提供了從可見光波長到近紅外的像差校正。對于高放大倍率的物鏡,配備了LCPLN-IR系列帶校正環(huán)的物鏡,校正由樣品厚度導致的像差。使用一個物鏡即可獲取清晰的圖像。
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BX53M偏光觀察
詳見BX53P偏光顯微鏡介紹。
兩種顯微鏡機架可用于反射光;一種還具有透射光觀察能力。同時配備了一個適配器,以抬升照明器,適應更高的樣品。
BXFM適合于特殊應用,或整合進其它儀器中。模塊化結構,再加上各種特殊的小型照明器和固定裝置,使其可以直接用于的環(huán)境和配置。
顯微鏡檢查時如果樣品不適合放在載物臺上,可以在更大的支架上或其它設備上安裝照明器和光學元件。
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奧林巴斯BX53M金相顯微鏡主要特點:
可實現(xiàn)明場、暗場、微分干涉、熒光、偏光、紅外等多種觀察方式。
反射光和透射光照明提供了高強度的白光LED光源。
具有ESD靜電消除能力,防止受到靜電放電的影響。
根據(jù)工業(yè)和材料學的不同應用,可以組合成反射顯微鏡、透反射顯微鏡、紅外顯微鏡、偏光顯微鏡等多種應用的顯微鏡。
采用了新的編碼功能,將顯微鏡的硬件設置與奧林巴斯Stream圖像分析軟件整合在一起,觀察方法、照明強度和物鏡位置全部記錄在軟件或手動控制器里。
產(chǎn)品名稱: BX53M金相顯微鏡
完全系統(tǒng)化模塊化的設計能夠實現(xiàn)多種配置,以滿足用戶的各種要求。
LED照明
BX53M為反射光和透射光照明提供了高強度的白光LED光源。無論強度是,LED都保持著一致的色溫。LED提供了高效而長壽命的照明,是材料學檢測應用的理想工具。
用于材料學的配置
BX53M反射和反射/透射觀察
BX3M系列有兩種顯微鏡機架,一種僅用于反射光,一種用于反射光和透射光組合。兩種機架都可配置手動、編碼或電動部件,并且都配備有ESD防靜電功能。
BX53M IR觀察
IR物鏡可用于透過硅材料成像,進行半導體檢查和測量。配備了5倍到100倍紅外(IR)物鏡,提供了從可見光波長到近紅外的像差校正。對于高放大倍率的物鏡,配備了LCPLN-IR系列帶校正環(huán)的物鏡,校正由樣品厚度導致的像差。使用一個物鏡即可獲取清晰的圖像。
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(適合FN22,不適合FN26.5)
BX53M偏光觀察
詳見BX53P偏光顯微鏡介紹。
顯微鏡機架
兩種顯微鏡機架可用于反射光;一種還具有透射光觀察能力。同時配備了一個適配器,以抬升照明器,適應更高的樣品。
BXFM系統(tǒng)
BXFM適合于特殊應用,或整合進其它儀器中。模塊化結構,再加上各種特殊的小型照明器和固定裝置,使其可以直接用于的環(huán)境和配置。
支架
顯微鏡檢查時如果樣品不適合放在載物臺上,可以在更大的支架上或其它設備上安裝照明器和光學元件。