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OTSUKA廣州代理OTSUKA 厚型粒度分析儀用自動進樣器 FPA...
價格
電議
型號
OTSUKAOTSUKA FPAR-1000AS
品牌
OTSUKA大塚電子
所在地
暫無
更新時間
2020-03-06 15:30:27
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產(chǎn)品描述
OTSUKA大塚電子廣州代理,大塚電子廣州代,OTSUKA大塚電子廣州代理,藤野貿易(廣州)有限公司,OTSUKA大塚電子代理商. 厚型粒度分析儀用自動進樣器日本OTSUKA大塚電子厚型粒度分析儀用自動進樣器日本OTSUKA大塚電子厚型粒度分析儀用自動進樣器日本OTSUKA大塚電子厚型粒度分析儀用自動進樣器日本OTSUKA大塚電子厚型粒度分析儀用自動進樣器日本OTSUKA大塚電子厚型粒度分析儀用自動進樣器日本OTSUKA大塚電子 特 長
オートサンプラー使用により50本まで試料を自動連続測定可能です。 希薄溶液から濃厚溶液まで、幅広い濃度範囲での高速?高精度な粒子徑?粒子徑分布(粒徑?粒徑分布)測定が可能です。 微粒子特有の分散?凝集過程をモニターする機能など、研究?品質管理の幅広い用途で使用可能です。 新開発の測定プローブにより、濃厚溶液での高精度な粒子徑測定に対応しています。 サンプル溫調、音波洗浄など、必要な機能をすべて內蔵したA3サイズのコンパクト設計です。
測定項目
粒子徑 3 nm ~ 5000nm 1 nm ~ 5000nm (高感度仕様) キュムラント平均粒子徑
ヒストグラム平均粒子徑(D 50 )(高感度仕様) 分布解析 CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法
対応濃度範囲
(標準ラテックス
204nm の場合) 0.001 ~ 10 % 濃厚系プローブ(標準)
0.01 ~ 10 % 希薄系プローブ(オプション)
0.001 ~ 0.01 %
応用分野
色材工業(yè)における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。 セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果 半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理 高分子?化學工業(yè)におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理 醫(yī)薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理 光觸媒(酸化チタン)粒子の分散狀態(tài)管理 FPAR-1000仕様
光源 半導體レーザー 検出器 光電子増倍管(フォトンカウンティング方式) サンプル溫調範囲 10 ~ 70℃ 溫調方式 電子式冷卻素子、ヒーター プローブ洗浄方式 音波洗浄 電源 AC100V ± 10%50/60Hz 300VA 寸法(WDH) 320(W)×507(D)×284(H) 重量 約 22 kg
オートサンプラー仕様
サンプルバイアル 円筒形セル(蓋つき)
サンプル容量 1 ~ 2.5 ml サンプルバイアル數(shù) 一度に 50本 まで搭載可能 溫調 ヒータ?ペルチェ方式 サンプル溫調範囲 15~40℃ 測定濃度範囲 0.001% ~ 10% (FPAR-1000と接続時)
OTSUKA大塚電子廣州代理,大塚電子廣州代,OTSUKA大塚電子廣州代理,藤野貿易(廣州)有限公司,OTSUKA大塚電子代理商.
藤野貿易(廣州)有限公司
地址:廣州市天河區(qū)中山大道中138號匯勤商業(yè)大廈715室
: -
郵編:510000
郵箱:zhf#fujinotrade.com
網(wǎng)址:www.fujinotrade.com 或 www.fujino.net.cn
OTSUKA大塚電子廣州代理,大塚電子廣州代,OTSUKA大塚電子廣州代理,藤野貿易(廣州)有限公司,OTSUKA大塚電子代理商.
本司代理優(yōu)勢:(歡迎來電詢價)
SOLAX/SERIC索納克斯,F(xiàn)UNATECH船越龍,DSK電通產(chǎn)業(yè),HIKARIYA光屋,ORIHARA折原
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,TECH-MO盛岡,SANEI三榮電機 ,OKANO岡野,SUGAWARA菅原,MITUTOYO三豐,RIKEN理研,KETT凱特
科學儀器:
SANSYO三商,TGK東京硝子,TOYOLING東洋,SIBATA柴田科學,LUCEO魯機歐,TGK東京硝子,HEIDON新東,KOKUSAN科庫森,NITTOKAGAKU日陶科學,ITOH伊藤,NIKKATO 日陶,KIRIYAMA桐山,KUSANO草野科學,NISSINRIKA日伸理化,NS恩艾斯
傳感器
KYOWA共和,METROL美德龍,OMRON歐姆龍,F(xiàn)UJI富士,OPTEX光電,KEYENCE基恩士
TAKEX竹中,SUGIDEN/SUGIYAMA杉山電機,GS吉艾斯,TAKASAGO高砂,MATSUNAGA松永,HISHIKO菱小,AIRTECH空氣科技,YAMABISHI山菱
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オートサンプラー使用により50本まで試料を自動連続測定可能です。 希薄溶液から濃厚溶液まで、幅広い濃度範囲での高速?高精度な粒子徑?粒子徑分布(粒徑?粒徑分布)測定が可能です。 微粒子特有の分散?凝集過程をモニターする機能など、研究?品質管理の幅広い用途で使用可能です。 新開発の測定プローブにより、濃厚溶液での高精度な粒子徑測定に対応しています。 サンプル溫調、音波洗浄など、必要な機能をすべて內蔵したA3サイズのコンパクト設計です。
測定項目
粒子徑 3 nm ~ 5000nm 1 nm ~ 5000nm (高感度仕様) キュムラント平均粒子徑
ヒストグラム平均粒子徑(D 50 )(高感度仕様) 分布解析 CONTIN法
MARQUARDT法
NNLS法
CUMULANT法
対応濃度範囲
(標準ラテックス
204nm の場合) 0.001 ~ 10 % 濃厚系プローブ(標準)
0.01 ~ 10 % 希薄系プローブ(オプション)
0.001 ~ 0.01 %
応用分野
色材工業(yè)における顔料?インクの分散?凝集制御?粒子徑管理。 セラミックススラリーの分散?凝集制御、分散剤効果 半導體分野の研磨粒子の粒子徑管理 高分子?化學工業(yè)におけるエマルジョン、ラテックスの分散凝集制御、粒子徑管理 醫(yī)薬品?食品エマルジョンの分散?凝集制御、リポソームなどの粒子徑管理 光觸媒(酸化チタン)粒子の分散狀態(tài)管理 FPAR-1000仕様
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サンプル容量 1 ~ 2.5 ml サンプルバイアル數(shù) 一度に 50本 まで搭載可能 溫調 ヒータ?ペルチェ方式 サンプル溫調範囲 15~40℃ 測定濃度範囲 0.001% ~ 10% (FPAR-1000と接続時)
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