大型旋轉等離子清洗機， 等離子體清洗的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的"活化作用"達到去除物體表面污漬的目的。等離子體清洗通常包括以下過程:無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài);氣相物質被吸附在固體表面;被吸附基團與固體表面分子反應生成產物分子;產物分子解析形成氣相;反應殘余物脫離表面。 等離子體清洗技術的特點是不分處理對象的基材類型，均可進行處理，對金屬、半導體、氧化物和大多數高分子材料，如聚丙烯、聚脂、聚酰亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理，并可實現整體和局部以及復雜結構的清洗等離子清洗機作為一種微觀固體表面的處理設設備，是一種全新的表面處理方案。等離子體是物質的一種狀態(tài)，也叫做物質的第四態(tài)。對氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清洗機是通過利用這些活性組分的性質來處理樣品表面，從而實現清潔等目的。 此款等離子清洗機針對粉末或者顆粒的360度表面處理設備，通過旋轉機構帶動石英攪拌罐使樣品處于懸空位置達到360度清洗。 主要應用于半導體、鍍膜工藝、PCB制程、PCB制程、元器件封裝前、COG前、真空電子、連接器和繼電器等行業(yè)的精密清洗，塑料、橡膠、金屬和陶瓷等表面的活化以及生命科學實驗等。 該清洗機內置高純石英倉體，采用了*的電極結構設計和固態(tài)電源技術，使其有效容積增大，不同真空 氣體環(huán)境下容易匹配，且控制頻率穩(wěn)定。真空倉門有觀察窗，可直觀物體的處理過程，其射頻電源與控制都組裝在一個機箱內，即減少了空間的占用，更便于操作和放置，同時與大型清洗機相比較，從檢測功能與控制功能的設置上均可一個面板上操作，特別適用科學實驗 樣品清洗 和教學。